- gravure ionique
- ионное травление, ионно-лучевое травление
Dictionnaire polytechnique Français-Russe. 2013.
gravure ionique
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Gravure Ionique Réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Gravure ionique reactive — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Gravure ionique réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Gravure ionique réactive profonde — La gravure ionique réactive profonde (en anglais Deep Reactive Ion Etching DRIE) est un procédé de gravure ionique réactive fortement anisotrope utilisé en micro électronique. Il sert à créer des trous et des tranchées profondes dans des wafers… … Wikipédia en Français
gravure ionique à haute fréquence — aukštadažnis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. high frequency ion etching vok. Hochfrequenzionenätzen, n rus. высокочастотное ионное травление, n pranc. gravure ionique à haute fréquence, f … Radioelektronikos terminų žodynas
Gravure par ions réactifs — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Gravure (micro-fabrication) — La gravure (aussi appelée parfois par son nom anglophone, etching) est un procédé utilisée en micro fabrication, qui consiste à retirer une ou plusieurs couches de matériaux à la surface d un wafer. La gravure est une étape critique, extrêmement… … Wikipédia en Français
Gravure au plasma — La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en micro fabrication (micro électronique). Elle consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d en retirer une ou plusieurs couches de… … Wikipédia en Français
Gravure sèche — La gravure sèche (dry etching) est un ensemble de technique de gravure des semi conducteurs en exposant le matériau à un bombardement d ions (généralement sous forme de plasma). Elles se distinguent des méthodes de gravures chimiques classiques… … Wikipédia en Français
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
